作者:楼仙英 马俊豪 孙苗
从芯片的发展历程来看,可以发现芯片的研发主要遵循摩尔定律,即微处理器内的晶体管数量每隔18个月至两年便翻一番,从而使得芯片的处理能力相应增强。根据Yole的统计,工艺节点每缩减一代,工艺中产生的致命缺陷数量会增加50%。当工序超过500道,单道工序的良率要超过99.99%,最终芯片良率才能超过95%。因此为保证晶圆加工良率,晶圆厂必须在刻蚀、光刻等每个关键步骤后对晶圆进行详尽的检测,这种贯穿晶圆制造全过程的检测/量测工艺被称为半导体前道量测。
作者:楼仙英 马俊豪 孙苗
从芯片的发展历程来看,可以发现芯片的研发主要遵循摩尔定律,即微处理器内的晶体管数量每隔18个月至两年便翻一番,从而使得芯片的处理能力相应增强。根据Yole的统计,工艺节点每缩减一代,工艺中产生的致命缺陷数量会增加50%。当工序超过500道,单道工序的良率要超过99.99%,最终芯片良率才能超过95%。因此为保证晶圆加工良率,晶圆厂必须在刻蚀、光刻等每个关键步骤后对晶圆进行详尽的检测,这种贯穿晶圆制造全过程的检测/量测工艺被称为半导体前道量测。